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  四（乙基甲基氨基）铪
Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium
别名： 四双(乙基甲基氨)铪(IV);四(乙基甲基氨基)铪(IV);四(乙基甲基胺基)铪(IV);四双(乙基甲基氨)铪(IV;四双(乙基甲基氨)铪(IV),99 展开
A2365018
352535-01-4
C12H32HfN4
410.90
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A2365018-2g 2g ≥99%,≥99.99% metals basis, <0.15% Zr TEMAH ¥742.90
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中文名称 四（乙基甲基氨基）铪
中文别名 四双(乙基甲基氨)铪(IV);四(乙基甲基氨基)铪(IV);四(乙基甲基胺基)铪(IV);四双(乙基甲基氨)铪(IV;四双(乙基甲基氨)铪(IV),99
英文名称 Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium
英文别名 Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium(IV);ethyl(methyl)azanide,hafnium(4+);HAFNIUM TETRAKIS(ETHYLMETHYLAMIDE);TEMAH;TEMAH (Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium(IV);MFCD03427130;SCHEMBL237323;Tetrakis(ethylmethylamido)hafnium(IV);352535-01-4;Tetrakis(ethylmethylamido)hafnium(IV), packaged for use in deposition systems;ethyl(methyl)azanide;hafnium(4+);Tetrakis(ethylmethylamido)hafnium(IV), >=99.99% trace metals basis;Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium;Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium 99.999%;Ethanamine, N-methyl-, hafnium(4+) salt (4:1);DTXSID70108284;DB-009835
CAS号 352535-01-4
分子式 C12H32HfN4
分子量 410.90
纯度 ≥99%,≥99.99% metals basis, <0.15% Zr TEMAH
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